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电弧离子镀CrN薄膜的镀覆工艺研究(PDF)

沈阳师范大学学报[ISSN:1673-5862/CN:21-1534/N]

期数:
2010年03期
页码:
407-411
栏目:
化学
出版日期:
2010-07-20

文章信息/Info

Title:
Deposition Technology of Arc Ion Plating CrN Film
作者:
刘明明刘述丽张轲;
沈阳师范大学化学与生命科学学院,辽宁沈阳110034;
Author(s):
LIU Ming-mingLIU Shu-liZHANG Ke
College of Chemistry and Life Science,Shenyang Normal University,Shenyang 110034,Chain
关键词:
氮化铬硬质薄膜电弧离子镀相结构表面形貌
分类号:
TG146.2
DOI:
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文献标识码:
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摘要:
随着氮分压增加,低分压时所产生的Cr和Cr2N的衍射峰减弱至消失,而CrN的衍射峰增强直至形成单相薄膜,薄膜表面的大颗粒密度、尺寸都减小,N2分压过大时薄膜表面的大颗粒又增加;随着脉冲偏压的施加,薄膜的表面变得均匀平整,大颗粒数量、尺寸明显减少,偏压过大时薄膜表面又有较大熔滴产生;抛光和喷砂均能降低薄膜表面大颗粒的形成。最后得到了电弧离子镀氮化铬涂层的最佳工艺。

参考文献/References

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备注/Memo

备注/Memo:
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更新日期/Last Update: 1900-01-01